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Vectorial pupil optimization to compensate polarization distortion in immersion lithography system
Tie Li, Yang Liu, Yiyu Sun, Xu Yan, Pengzhi Wei,
Yanqiu Li
*
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
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文章
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同行评审
10
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Vectorial pupil optimization to compensate polarization distortion in immersion lithography system' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Lithography
100%
Engineering
Induced Polarization
20%