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Reduced screening of remote phonon scattering in thin-film transistors caused by gate-electrode/gate-dielectric interlayer
Y. X. Ma
, W. M. Tang
*
, P. T. Lai
*
*
此作品的通讯作者
集成电路与电子学院
The University of Hong Kong
科研成果
:
期刊稿件
›
文章
›
同行评审
11
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Reduced screening of remote phonon scattering in thin-film transistors caused by gate-electrode/gate-dielectric interlayer' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Annealing
20%
Carrier Mobility
20%
Carrier Transport
10%
Density
10%
Dielectric Material
100%
Grain Size
10%
Oxide Compound
10%
Surface Roughness
10%
Thin-Film Transistor
100%
Transmission Electron Microscopy
10%