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Doping effects on ablation enhancement in femtosecond laser irradiation of silicon
Juqiang Fang,
Lan Jiang
*
, Qiang Cao, Kaihu Zhang, Yanping Yuan, Yongfeng Lu
*
此作品的通讯作者
机械与车辆学院
Beijing Institute of Technology
University of Nebraska-Lincoln
科研成果
:
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同行评审
6
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Doping effects on ablation enhancement in femtosecond laser irradiation of silicon' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Doping Density
100%
Ablation Threshold
50%
N-Type Doping
50%
Laser Beam Machining
50%