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氧化物双介质层忆阻器的设计及应用
Junqi You, Ce Li, Dongliang Yang,
Linfeng Sun
*
*
此作品的通讯作者
物理学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
3
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 '氧化物双介质层忆阻器的设计及应用' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Dielectric Material
100%
Metal Oxide
100%
Electronic Component
14%
Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Device
14%
Neuromorphic Computing
14%
Engineering
Dielectric Layer
100%
Voltage Fluctuation
16%
Potential Application
16%
Resistive
16%
Device Performance
16%
Complementary Metal-Oxide-Semiconductor
16%
Single Device
16%
Physics
Synapse
11%