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Tolerance analysis of hyper numerical aperture lithography objective with freeform surfaces
Shanshan Mao,
Yanqiu Li
, Meng Zheng,
Ke Liu
,
Lihui Liu
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
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同行评审
综述
指纹
指纹
探究 'Tolerance analysis of hyper numerical aperture lithography objective with freeform surfaces' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Fits and Tolerances
100%
Numerical Aperture
100%
Lithography
100%
Nodes
14%
Manufacturing Process
14%
Design Stage
14%
Root Mean Square
14%
Good Performance
14%