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Thermal distortion of EUV reticle during exposure
Peng Fei Zhou
*
,
Yan Qiu Li
, Yong Hong Shang
*
此作品的通讯作者
CAS - Institute of Electrical Engineering
University of Chinese Academy of Sciences
科研成果
:
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综述
指纹
指纹
探究 'Thermal distortion of EUV reticle during exposure' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Power Density
100%
Thermal Distortion
100%
Lithography
50%
Finite Element Method
50%
Thermal Model
50%
Extreme-Ultraviolet Lithography
50%
Absorber Layer
50%
Material Science
Density
100%
Finite Element Method
33%
Multilayer
33%
Lithography
33%
Extreme-Ultraviolet Lithography
33%