跳到主要导航
跳到搜索
跳到主要内容
北京理工大学 首页
English
中文
首页
师资队伍
研究单位
科研成果
奖项
按专业知识、名称或附属进行搜索
The simulation analysis of the scatterfield microscopy for the critical dimensions measurement
Lingfeng Chen
*
, Dingguo Sha
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
期刊稿件
›
会议文章
›
同行评审
综述
指纹
指纹
探究 'The simulation analysis of the scatterfield microscopy for the critical dimensions measurement' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Critical Dimension
100%
Back Focal Plane
100%
Line Width
66%
Waveguide
66%
Manufacturing Process
33%
Nanometre
33%
Side Wall
33%
Reflectance
33%
Angle of Incidence
33%
Semiconductor Manufacturing
33%
Physics
Linewidth
100%
Waveguide
100%
Integral Equations
50%
Reflectance
50%