The impact of mask errors on the critical dimensions of butting feature on 65nm node

Fei Zhang*, Yanqiu Li

*此作品的通讯作者

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4 引用 （Scopus）

指纹

探究 'The impact of mask errors on the critical dimensions of butting feature on 65nm node' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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