跳到主要导航
跳到搜索
跳到主要内容
北京理工大学 首页
English
中文
首页
师资队伍
研究单位
科研成果
奖项
按专业知识、名称或附属进行搜索
The effects of RET on process capability for 45nm technology node
Fei Zhang,
Yanqiu Li
*
*
此作品的通讯作者
Chinese Academy of Sciences
University of Chinese Academy of Sciences
科研成果
:
书/报告/会议事项章节
›
会议稿件
›
同行评审
综述
指纹
指纹
探究 'The effects of RET on process capability for 45nm technology node' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Nodes
100%
Process Window
100%
Process Capability
100%
Polarized Light
66%
Smallest Feature
50%
Numeric Aperture
50%
Lithography
33%
Photoresist
33%
Main Factor
16%
Relative Importance
16%
Optical Lithography
16%
Optical Parameter
16%
Optimum Condition
16%