Post-CMOS processing for high-aspect-ratio integrated silicon microstructures

Huikai Xie*, Lars Erdmann, Xu Zhu, Kaigham J. Gabriel, Gary K. Fedder

*此作品的通讯作者

科研成果: 期刊稿件文章同行评审

135 引用 (Scopus)

指纹

探究 'Post-CMOS processing for high-aspect-ratio integrated silicon microstructures' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

Engineering