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Optimization of resolution-enhancement technology and dual-layer bottom-antireflective coatings in hypernumerical aperture lithography
Yanqiu Li
*
, Yuan Zhou
*
此作品的通讯作者
光电学院
CAS - Institute of Electrical Engineering
University of Chinese Academy of Sciences
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
4
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Optimization of resolution-enhancement technology and dual-layer bottom-antireflective coatings in hypernumerical aperture lithography' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Coating Structure
66%
Line Width
33%
Lithography
100%
Phase Shift
66%
Polarization Effect
33%
Process Window
33%
Side Wall
33%
Material Science
Linewidth
33%
Lithography
100%