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Numerical simulation of chemical processes in atmospheric plasmas
Jian Ming Ouyang
*
,
Wei Guo
, Long Wang, Fu Qiu Shao
*
此作品的通讯作者
National University of Defense Technology
CAS - Institute of Physics
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
18
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Numerical simulation of chemical processes in atmospheric plasmas' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Physics
Atmospheric Plasma
100%
Plasma Lifetime
50%
High Altitude Pressure
50%