跳到主要导航
跳到搜索
跳到主要内容
北京理工大学 首页
English
中文
0
更多
首页
师资队伍
研究单位
科研成果
奖项
按专业知识、名称或附属进行搜索
Multi-objective lithographic source mask optimization to reduce the uneven impact of polarization aberration at full exposure field
Tie Li, Yiyu Sun, Enze Li, Naiyuan Sheng,
Yanqiu Li
*
, Pengzhi Wei, Yang Liu
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
期刊稿件
›
文章
›
同行评审
15
引用 (Scopus)
0
更多
综述
指纹
指纹
探究 'Multi-objective lithographic source mask optimization to reduce the uneven impact of polarization aberration at full exposure field' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Lithography
100%
Field Point
66%
Nodes
33%
Demonstrates
33%
Error Pattern
33%
Imaging Performance
33%
Error Distribution
33%
Image Model
33%
Material Science
Lithography
100%
Earth and Planetary Sciences
Standard Deviation
100%