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Lateral resistance reduction induced by light-controlled leak current in silicon-based Schottky junction
Shuan Hu Wang
*
, Xu Zhang, Lv Kuan Zou,
Jing Zhao
, Wen Xin Wang, Ji Rong Sun
*
此作品的通讯作者
CAS - Institute of Physics
Wuhan University of Technology
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
3
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Lateral resistance reduction induced by light-controlled leak current in silicon-based Schottky junction' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Silicon
100%
Metallic Films
33%
Engineering
Lateral Resistance
100%
Electrical Potential
33%