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Informatics-based computational lithography for phase-shifting mask optimization
Yihua Pan,
Xu Ma
*
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
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同行评审
2
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Informatics-based computational lithography for phase-shifting mask optimization' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Optical Lithography
100%
Semiconductor Fabrication
33%
Mutual Information
33%
Error Image
33%
Information Channel
33%
Material Science
Optical Lithography
100%