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Impact of Surface Treatments on High-k Zirconium Aluminum Oxide Dielectric without Annealing
Bin Liu, Yue Zhang,
Zhinong Yu
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
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同行评审
综述
指纹
指纹
探究 'Impact of Surface Treatments on High-k Zirconium Aluminum Oxide Dielectric without Annealing' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Dielectric Material
100%
Hydrogen Peroxide
100%
Zirconium
100%
Aluminum Oxide
100%
Annealing
75%
Film
50%
Oxygen Vacancy
50%
Density
25%
Amorphous Material
25%
Oxide Film
25%
Permittivity
25%