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High efficiency graded multilayer coating design using least-square fitting for NA0.55 extreme ultraviolet lithography Objective
Xiaonan Zhong, Yue Ma, Xu Yan,
Ke Liu
,
Yanqiu Li
*
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
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同行评审
综述
指纹
指纹
探究 'High efficiency graded multilayer coating design using least-square fitting for NA0.55 extreme ultraviolet lithography Objective' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Least Square
100%
Extreme-Ultraviolet Lithography
100%
Multilayer Coating
100%
Design Method
33%
Design Result
33%
Material Science
Reflectivity
100%
Extreme-Ultraviolet Lithography
100%
Physics
Lithography
100%