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Graded Multilayer Film Design for Anamorphic Magnification EUV Lithographic Objective
Shihuan Shen,
Yanqiu Li
*
, Jiahua Jiang, Yan Liu,
Ke Liu
,
Lihui Liu
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
2
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Graded Multilayer Film Design for Anamorphic Magnification EUV Lithographic Objective' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Multilayer Film
100%
Incident Angle
22%
Numerical Aperture
22%
Satisfies
22%
Objective Lens
11%
Imaging Performance
11%
Extreme-Ultraviolet Lithography
11%
Lens System
11%
Material Science
Multilayer Film
100%
Reflectivity
55%
Extreme-Ultraviolet Lithography
11%