Exposure latitude aware source and mask optimization for extreme ultraviolet lithography

Lulu Zou, Yiyu Sun, Pengzhi Wei, Miao Yuan, Zhaoxuan Li, Lihui Liu, Yanqiu Li*

*此作品的通讯作者

科研成果: 期刊稿件文章同行评审

6 引用 (Scopus)

指纹

探究 'Exposure latitude aware source and mask optimization for extreme ultraviolet lithography' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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