Efficient informatics-based source and mask optimization for optical lithography

Yihua Pan, Xu Ma*, Shengen Zhang, Javier Garcia-Frias, Gonzalo R. Arce

*此作品的通讯作者

科研成果: 期刊稿件 › 文章 › 同行评审

3 引用 （Scopus）

指纹

探究 'Efficient informatics-based source and mask optimization for optical lithography' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

Engineering

Material Science