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Effects of Gd
2
O
3
Content on the Infrared Emissivity and Ablation Resistance of HfB
2
/SiC/TaSi
2
Coating at 4400 kW/m
2
Jianxiao Lu, Shizhen Zhu
*
,
Yanbo Liu
, Mingshao Xie
*
此作品的通讯作者
材料学院
Beijing Institute of Technology
Yan'an University
科研成果
:
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同行评审
3
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Effects of Gd
2
O
3
Content on the Infrared Emissivity and Ablation Resistance of HfB
2
/SiC/TaSi
2
Coating at 4400 kW/m
2
' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
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Material Science
Plasma Spraying
100%
Oxygen Vacancy
100%