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Effect of surface passivation on dopant distribution in Si quantum dots: The case of B and P doping
Jie Ma
*
, Su Huai Wei, Nathan R. Neale, Arthur J. Nozik
*
此作品的通讯作者
National Renewable Energy Laboratory
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
29
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Effect of surface passivation on dopant distribution in Si quantum dots: The case of B and P doping' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Doping (Additives)
100%
Quantum Dot
100%
Surface Passivation
100%
Boron
40%
Physics
Quantum Dot
100%
Surface Passivation
100%
First-Principles
20%