Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of ArF immersion lithography at 45 nm node

Yanqiu Li*, Fei Zhang

*此作品的通讯作者

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4 引用 （Scopus）

指纹

探究 'Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of ArF immersion lithography at 45 nm node' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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