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Decomposition-learning-based thick-mask model for partially coherent lithography system
Ziqi Li, Lisong Dong,
Xu Ma
, Yayi Wei
*
*
此作品的通讯作者
光电学院
CAS - Institute of Microelectronics
University of Chinese Academy of Sciences
Guangdong Greater Bay Area Applied Research Institute of Integrated Circuit and Systems
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
3
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Decomposition-learning-based thick-mask model for partially coherent lithography system' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Lithography
100%
Simulators
66%
Illumination Condition
66%
Nodes
33%
Simulation Result
33%
Obtains
33%
Computational Efficiency
33%
Mask Pattern
33%
Aerial Image
33%
Critical Dimension
33%
Chemical Engineering
Lithography
100%
Material Science
Lithography
100%