Crystallization evolution and ferroelectric behavior of Bi 3.25 La 0.75 Ti 3 O 12 -based thin films prepared by rf-magnetron sputtering
Shuai Ma, Xingwang Cheng*, Tayyeb Ali, Zhaolong Ma, Zhijun Xu, Ruiqing Chu
*此作品的通讯作者
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（Scopus）