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Approaching the resolution limit of W-C nano-gaps using focused ion beam chemical vapour deposition
Jun Dai
*
, Hui Chang, Etsuo Maeda, Shin'ichi Warisawa, Reo Kometani
*
此作品的通讯作者
机电学院
Beijing Institute of Technology
The University of Tokyo
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
2
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'Approaching the resolution limit of W-C nano-gaps using focused ion beam chemical vapour deposition' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Chemical Vapor Deposition
100%
Focused Ion Beam
100%
Nanocrystalline Material
66%
Nanodevice
33%
Nanowire
33%
Josephson Junction
33%
Engineering
Josephson Junction
33%