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All-reflective optical system design for extreme ultraviolet lithography
Jun Chang
*
, Meifang Zou, Ruirui Wang, Shulong Feng, M. M. Talha
*
此作品的通讯作者
光电学院
Beijing Institute of Technology
CAS - Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics
IICS
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
11
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'All-reflective optical system design for extreme ultraviolet lithography' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Physics
Lithography
100%
Material Science
Extreme-Ultraviolet Lithography
100%
Engineering
Absorption Material
25%
Structural System
25%
Optimal Layout
25%