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A comparison study of tantalum-nitrogen and chromium absorber in extreme ultraviolet mask fabrication using electron-beam lithography simulation
Zhao Guorong,
Li Yanqiu
*
*
此作品的通讯作者
University of Chinese Academy of Sciences
CAS - Institute of Electrical Engineering
科研成果
:
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会议稿件
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2
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综述
指纹
指纹
探究 'A comparison study of tantalum-nitrogen and chromium absorber in extreme ultraviolet mask fabrication using electron-beam lithography simulation' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Chromium
100%
Tantalum
100%
Electron Optical Lithography
100%
Lithography
20%
Extreme-Ultraviolet Lithography
20%
Engineering
Edge Roughness
20%