溅射功率和气压对直流磁控溅射制备钨薄膜的影响

Xiaoshuai Xing, Yingxia Liu, Xiaodong Yu, Jingwei Cheng, Xiuchen Zhao, Zhihua Nie, Chengwen Tan*

*此作品的通讯作者

科研成果: 期刊稿件文章同行评审

1 引用 (Scopus)

指纹

探究 '溅射功率和气压对直流磁控溅射制备钨薄膜的影响' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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