晶粒尺寸对CVD钨在800 ℃下氧化行为的影响

Shihui Zhang, Kaijun Wang*, Jin Hu, Chengwen Tan, Xiaodong Yu, Yunbiao Duan, Weijun Zhang

*此作品的通讯作者

科研成果: 期刊稿件文章同行评审

1 引用 (Scopus)

指纹

探究 '晶粒尺寸对CVD钨在800 ℃下氧化行为的影响' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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