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低阻硅TSV与铜填充TSV热力学特性对比分析
Xiaoying Deng
, Siqi Yu, Shiwei Wang, Yi Xie
集成电路与电子学院
Beijing Institute of Technology
科研成果
:
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同行评审
1
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 '低阻硅TSV与铜填充TSV热力学特性对比分析' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Silicon
100%
Electrical Resistivity
100%
Aluminum
12%
Finite Element Method
12%