跳到主要导航
跳到搜索
跳到主要内容
北京理工大学 首页
English
中文
首页
师资队伍
研究单位
科研成果
奖项
按专业知识、名称或附属进行搜索
查看 Scopus 资料
叶 术军
前沿交叉科学研究院
h-index
8
引用
2
H-指数
根据储存在 Pure 的刊物以及来自 Scopus 的引用文献数量计算
2023
2024
每年的科研成果
概览
指纹图谱
合作网络
科研成果
(3)
相似学者
(5)
指纹图谱
深入其中 Shujun Ye 为活跃的研究主题。这些主题标签来自此人的成果。它们共同形成唯一的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Adsorption
9%
Bridging
9%
Chamber Pressure
9%
Chemical Vapor Deposition
63%
Clock Cycle
15%
Deposition Rate
18%
Experimental Parameter
18%
Field-Effect Transistor
63%
Gas-Phase
9%
Heterostructures
15%
Integrated Circuit
84%
Limitations
15%
Logic Circuit
31%
Logic Gate
63%
Main Device
15%
Memory Array
63%
Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor
47%
Nanometre
9%
Nodes
15%
Phase Reaction
9%
Pressure Gas
9%
Radio Frequency
9%
Sio2 Film
63%
Speed Application
15%
Substrate Temperature
9%
Surface Morphology
18%
Thin Films
63%
Three Dimensional Integrated Circuits
63%
Vapor Deposition
63%
Material Science
Chemisorption
9%
Electrical Resistance
12%
Electronic Circuit
100%
Field Effect Transistor
63%
Film
63%
Film Growth
9%
Heterojunction
12%
Logic Gate
25%
Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor
38%
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
63%
Surface Morphology
18%
Surface Reaction
9%
Thin Films
63%
Computer Science
Clock Cycle
7%
Content-Addressable Memory
63%
Logic Gate
15%
Memory Array
63%
Memory Design
23%
Power Dissipation
7%
Quantum Computing
7%
Technology Data
7%
Transmission Gate
63%
